成都光电研究所报捷： 直接分布重复投影光刻机研制成功

第2版(国内新闻)
专栏：四面八方

　　成都光电研究所报捷：
直接分布重复投影光刻机研制成功
本报成都讯 科学报记者邓贤春、本报记者陈华报道：中国科学院成都光电研究所，历时六年成功地研制出大规模集成电路的关键设备——直接分布重复投影光刻机。三月十三日，在此间通过了中国科学院主持的评议。来自全国的专家一致认为：该机已达到生产实用的要求，具有国际八十年代中期先进水平。